מכונות ציפוי ואקוםבתחום הדקורטיבי משתמשים לעתים קרובות בציפוי אידוי ואקום. אידוי בוואקום הוא תהליך שבו החומר המיועד לציפוי מונח בוואקום ומאדה או סובלימציה, תוך הפקדתו על פני השטח של חומר עבודה או מצע. זה כרוך בחימום חומר הגלם במיכל אידוי בתוך תא ואקום, מה שגורם לאידוי או למולקולות שלו להתאדות ולברוח מהמשטח, ויוצרים אדים שזורמים על משטח מוצק (הנקרא מצע) ומתעבה ליצירת סרט מוצק. ניתן להתאים את צורת מקור האידוי בהתאם לתכונות חומר האידוי ויכולת הרטיבות שלו, תוך שימוש בצורות שונות וחומרי מקור אידוי שונים. ציפוי אידוי ואקום מורכב משלוש שכבות: שכבת פריימר (6~12 µm) + שכבת ציפוי (1~2 µm) + שכבת ציפוי עליון (10 µm). טיפול לפני-הרכבה כולל ניגוב משטח המצע נקי מכל זיהומים ואבק כדי לשפר את תפוקת הריסוס. לאחר מכן מרכיבים את המצע על מתקן מיוחד לאבטחו על פס הייצור, תוך השגת המראה והתפקוד הרצויים בהתאם לדרישות התכנון.
חלק אחר משתמש בקריסת ואקום, המתייחסת בדרך כלל לקריזת מגנטרון, שיטת קיצוץ-במהירות-בטמפרטורה נמוכה. גז אינרטי (Ar) מתמלא בוואקום, וזרם ישר במתח גבוה- מופעל בין החלל למטרה המתכתית (קתודה). אלקטרונים הנוצרים על ידי פריקת זוהר מעוררים את הגז האינרטי כדי לייצר יוני ארגון חיוביים. יונים חיוביים אלה נעים במהירות גבוהה לעבר יעד הקתודה, פולטים אטומי מטרה ומפקידים אותם על מצע הפלסטיק ליצירת סרט דק.
מכונות מקרטעת ואקוםלהשתמש בחלקיקים באנרגיה גבוהה- (בדרך כלל יונים חיוביים המואצים על ידי שדה חשמלי) כדי להפציץ משטח מוצק. התופעה שבה אטומים ומולקולות על פני השטח המוצקים מחליפים אנרגיה קינטית עם חלקיקי האנרגיה הגבוהים- הנכנסים ואז נפלטים מהמשטח המוצק נקראת קפיצה. לאטומים המקרטעים (או הקבוצות האטומיות) יש כמות מסוימת של אנרגיה, והם יכולים להתמקם מחדש ולהתעבות על פני המצע המוצק כדי ליצור סרט דק. התזת ואקום דורשת מילוי גז אינרטי במצב ואקום כדי להשיג פריקת זוהר. תהליך זה דורש רמת ואקום במצב זרימה מולקולרית. ניתן לבצע קישוט ואקום ישירות ללא פריימר, בהתאם למאפייני המצע וחומר המטרה. ניתן לבנות את שכבת הציפוי של התזת ואקום על ידי התאמת הזרם והזמן, אך היא לא יכולה להיות עבה מדי, בדרך כלל נעה בין 0.2 ל-2 מיקרומטר.
