1. ניקוי חימום ואקום
חומר העבודה מחומם בלחץ רגיל או בוואקום כדי להתאדות את הזיהומים הנדיפים על פני השטח שלו כדי להשיג את מטרת הניקוי. השפעת הניקוי של שיטה זו קשורה ללחץ הסביבה של חומר העבודה, אורך זמן החזקת ואקום, טמפרטורת החימום, סוג המזהמים וחומר היצירה. העיקרון הוא לחמם את חומר העבודה לקידום שיפור הספיחה של מולקולות מים ומולקולות פחמימניות שונות הנספגות על פני השטח שלה. מידת שיפור הספיחה תלויה בטמפרטורה. בוואקום גבוה במיוחד, על מנת להשיג משטח נקי אטומי, טמפרטורת החימום חייבת להיות גבוהה מ- 450 מעלות, ושיטת ניקוי החימום יעילה במיוחד. אך לפעמים לשיטה זו יש תופעות לוואי. כתוצאה מחימום, כמה פחמימנים יכולים לפולימר לאגרגטים גדולים יותר ולהתפרק לסיגים פחמניים בו זמנית.
2. ניקוי הקרנה אולטרה סגולת
השתמש בקרינה אולטרה סגולה כדי לפרק פחמימנים על פני השטח. לדוגמה, חשיפה לאוויר למשך 15 שעות יכולה לייצר משטח זכוכית נקי. אם משטח ניקוי מראש ממוקם במקור אולטרה סגול המייצר אוזון, לוקח מספר דקות ליצירת משטח נקי (ניקוי תהליכים), מה שמראה כי נוכחות האוזון משפרת את קצב הניקוי. מנגנון הניקוי הוא שתחת הקרנה אולטרה סגולה, מולקולות העפר נרגשות ומנותקות, וייצור ונוכחותו של אוזון מייצרים חמצן אטומי פעיל מאוד. מולקולות המזהם הנרגשות והרדיקלים החופשיים הנוצרים כתוצאה מניתוק של מזהמים מגיבים עם חמצן אטומי כדי לייצר מולקולות פשוטות יחסית והפכפכות, כמו H203, CO2, N2 וכו '. קצב התגובה עולה עם עליית הטמפרטורה.
3. ניקוי פריקה
שיטת ניקוי זו נמצאת בשימוש נרחב בניקוי ובדיחת מערכות ואקום גבוהות ואקום גבוה במיוחד, במיוחד בציוד ציפוי ואקום. באמצעות חוטים או אלקטרודות חמים כמקורות אלקטרונים ומפעילים הטיה שלילית על המשטח היחסי לניקוי, ניתן להשיג את ספיחת הגז והסרתם של כמה פחמימנים על ידי הפצצת יונים. אפקט הניקוי תלוי בחומר האלקטרודה, בגיאומטריה ובקשרו עם פני השטח, כלומר מספר היונים ליחידת שטח פנים ואנרגיית היונים, ובכך תלוי בעוצמה החשמלית היעילה. כאשר תא הוואקום מתמלא בגז אינרטי (בדרך כלל גז AR) בלחץ חלקי מתאים, ניתן להשתמש בהפצצת היונים הנוצרת על ידי פריקת זוהר בלחץ נמוך בין שתי אלקטרודות מתאימות לניקוי תא הוואקום. בשיטה זו, הגז האינרטי מיונן ומפציץ את הקיר הפנימי של תא הוואקום, רכיבים מבניים אחרים בתא הוואקום ובמצע. ניתן לנקות כמה פחמימנים מסוימים אם יתווסף חמצן לגז המלא. מכיוון שחמצן יכול לחמצן כמה פחמימנים ליצירת גזים נדיפים, ניתן לשלול אותו בקלות ממערכת הוואקום. המרכיבים העיקריים של זיהומים על פני השטח של ואקום גבוה של נירוסטה ומכולות ואקום גבוהות במיוחד הם פחמן ופחמימנים. בנסיבות רגילות, הפחמן אינו יכול להתפוצץ בלבד. לאחר ניקוי כימי, יש להציג את AR או AR + 02 גז מעורב לצורך ניקוי פריקת זוהר. בניקוי פריקת זוהר, הפרמטרים החשובים יותר הם סוג המתח המופעל (AC או DC), המשמש לניקוי משטח הצבע והגז המחויב כימית אל פני השטח, מתח הפריקה, צפיפות הזרם, סוג הגז והלחץ, זמן ההפצצה, צורת האלקטרודה, החומר ומיקום החלקים שיש לנקות וכו 'וכו'.
Iv. שטיפת גז
1. שטיפת אמוניה
כאשר חנקן נספג על פני החומר, אנרגיית הספיחה קטנה מאוד, כך שזמן הספיחה על פני השטח קצר מאוד, וגם אם הוא נספג על קיר המכשיר, הוא נשאב בקלות. שימוש במאפיין זה של אמוניה לשטיפת מערכת הוואקום יכול לקצר את זמן השאיבה של המערכת. מכונת ציפוי הוואקום מלאה בחנקן יבש לפני שהיא מכניסה לאטמוספירה, ניתן לקצר את זמן השאיבה של מחזור השאיבה הבא בכמעט מחצית, מכיוון שאנרגיית הספיחה של חנקן קטנה בהרבה מאנרגיה הספיחה של מולקולות אדיות, ואחרי מלאת החנקן של החנקן, במלכודת החנקן. מכיוון שאתרי הספיחה בטוחים ומלאים תחילה במולקולות חנקן, יש מעט מולקולות מים סופגות, מה שמקצר את זמן השאיבה. אם המערכת מזוהמת על ידי התזת שמן ממשאבת הדיפוזיה, ניתן לנקות את המערכת המזוהמת גם על ידי שטיפת חנקן. בדרך כלל, בעת אפייה וחימום המערכת, ניתן לשטוף את המערכת בחנקן כדי לחסל את זיהום השמן.
2. שטיפת גז תגובתי
שיטה זו מתאימה במיוחד לניקוי פנימי של מערכות ואקום גדולות אולטרה-גבוהות נירוסטה (הסרת זיהום פחמימנים), והיא בדרך כלל מתאימה לתאי ואקום ורכיבי ואקום של כמה מערכות ואקום גדולות במיוחד. על מנת להשיג משטח נקי במצב אטומי, השיטה הסטנדרטית לביטול זיהום פני השטח היא ניקוי כימי, אפיית תנור ואקום, ניקוי פריקת זוהר ומערכת ואקום עם אפיית אנרגיה אטומית. לרוב משתמשים בשיטות הניקוי וההתבגרות לעיל לפני ובמהלך התקנת מערכת הוואקום. לאחר התקנת מערכת הוואקום (או לאחר שהמערכת פועלת), קשה להפיל אותה מכיוון שהרכיבים השונים כבר קבועים. ברגע שהמערכת מזוהמת (בטעות) (בעיקר על ידי מולקולות עם מספרים אטומיים גדולים יותר כמו פחמימנים), היא בדרך כלל מפורקת, מעובדת מחדש ומותקנת מחדש, בעוד שניתן להתבצע דירה מקוונת באמצעות תוכנית גז תגובתי, תוך הסרת יעילות של מזהמים של פחמימנים במלון נירוסטה. מנגנון הניקוי שלו: הצגת גז מחמצן (02, ללא RRB- והפחתת גז (NH3 NH3) למערכת כדי להגיב כימית ולנקות את משטח המתכת כדי לחסל את המזהמים ולקבל את המצב האטומי של משטח המתכת הנקי. שיעור השטח של השטח של השטח/הפחתה תלוי בתנאים של זיהום ובחומר המתכת. מצעים, הפרמטרים המדויקים לכיווני קריסטל שונים נקבעים באופן ניסיוני, והפרמטרים הללו שונים.
